MgO薄膜層被電抗性的射頻管噴鍍后的表面放電特性
Chung-Hoo Park a,*,Woo-Geun Lee a, Dong-Hyun Kim a, Hong-Ju Ha b, Ju-Youn Ryu b

a 電機工程部，工程學院，釜山國立大學，韓國釜山
b Kumi 展示2個設備，LG 電子學公司，Kyungsang, buk-做，韓國

接收于1998年4月24日；承認于1998年7月31日
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摘要
這篇論文描述了 MgO 薄膜層用電抗性無線電頻率平面磁電管在交流等離子體顯示板的介電層噴鍍后，表面輝光放電的影響。借由介紹在介電體上的一種 MgO 涂料，放電電壓急劇地減少，雖然厚度只有幾十埃。最低的放電電壓是這樣獲得的：樣品是由含有30%的氧氣于氧氣和氬氣的混合氣體和在壓力約為5毫托的噴鍍氣體制成。而且，高透明度（達到95%）也是在相同的實驗情況下獲得。樣品比用電子束方法制成的顯示出更好的抵抗噴鍍性能，且在焊后沉積物的退火中沒有發(fā)現裂縫。©1998 Elsevier Science S.A.版權所有

關鍵字：MgO 薄膜層；表面放電，電抗性磁電管噴鍍；等離子體顯示板
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1 緒論
在最近幾年，已做出重要的進展在可利用的商業(yè)，真彩，交流電(AC)等離子體顯示板(PDPs)方面。布滿介電層的 AC PDP 的電極，像 SiO2，然后是 MgO 薄膜層，都被沉積在介電層上。眾所周知，AC PDP 的性能會被 MgO 薄膜層[1–3]的表面輝光放電特性所嚴重影響。 MgO 薄膜層在 AC PDP 里扮演保護介電層免于輝光放電的等離子體的離子轟擊的噴鍍。另外 MgO 薄膜層也在降低放電起初電壓[4-6]方面擔任重要角色，而且產出廉價的 PDPs，因為高電壓 PDP 造價非常貴。
MgO 薄膜層現在是被電子束蒸發(fā)方法[7,8]制成。然而，MgO 薄膜層的一些問題已經被報導；舉例來說，裂縫和高的腐蝕率是由于輝光放電[9]的離子轟擊放電的結果。為了要改善 MgO 薄膜層的性能, 新的制作方法，像是物理的蒸汽沉淀/化學的蒸汽沉淀處理，或者厚膜層-絲網印刷方法已經被提議[10-13]。在工作中，MgO 薄膜層在用射頻電抗性平面磁電管噴鍍方法的介電性層上被制成, 和它的表面放電特性已經在研究。尤其是, 為了要改善沉淀率, RF射頻電抗
性噴鍍方法已被采用。 在研究中，我們主要把重心集中在 MgO 薄膜層準備情況和表面的放電特性之間的關系上。