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脈沖工藝在薄膜制備中的應(yīng) 用.doc

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脈沖工藝在薄膜制備中的應(yīng) 用,脈沖工藝在電弧離子鍍和磁控濺射中的應(yīng)用。脈沖工藝為電弧離子鍍凈化大顆粒、增強(qiáng)膜基結(jié)合力、改善組織形貌、降低沉積溫度等起到了重要作用。電弧或?yàn)R射離子鍍高的離化率為脈沖工藝提供了最好的應(yīng)用條件。最后，對脈沖工藝在薄膜制備中的應(yīng)用前景進(jìn)行了展望。
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分類: 論文>機(jī)械工業(yè)論文

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脈沖工藝在電弧離子鍍和磁控濺射中的應(yīng)用。脈沖工藝為電弧離子鍍凈
化大顆粒、增強(qiáng)膜基結(jié)合力、改善組織形貌、降低沉積溫度等起到了重要作用。電弧或?yàn)R射離子鍍
高的離化率為脈沖工藝提供了最好的應(yīng)用條件。最后，對脈沖工藝在薄膜制備中的應(yīng)用前景進(jìn)行了
展望。

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