adc轉(zhuǎn)換器參考電壓模塊的版圖設(shè)計(jì).doc
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adc轉(zhuǎn)換器參考電壓模塊的版圖設(shè)計(jì),61頁(yè),3.2萬(wàn)余字摘 要版圖設(shè)計(jì)是決定良率高低的一個(gè)重要環(huán)節(jié),按設(shè)計(jì)自動(dòng)化程度來(lái)分,可將版圖設(shè)計(jì)方法分成手工設(shè)計(jì)和自動(dòng)設(shè)計(jì)兩大類(lèi)。按照對(duì)布局布線(xiàn)位置的限制和布局模塊的限制來(lái)分, 則可把設(shè)計(jì)方法分成全定制和半定制兩大類(lèi)。由于制造工藝水平的提高,特征尺寸的減小,各種寄生參數(shù)對(duì)電路的影響也越來(lái)越大,在版圖設(shè)計(jì)中有越來(lái)越多的...
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61頁(yè),3.2萬(wàn)余字
摘 要
版圖設(shè)計(jì)是決定良率高低的一個(gè)重要環(huán)節(jié),按設(shè)計(jì)自動(dòng)化程度來(lái)分,可將版圖設(shè)計(jì)方法分成手工設(shè)計(jì)和自動(dòng)設(shè)計(jì)兩大類(lèi)。按照對(duì)布局布線(xiàn)位置的限制和布局模塊的限制來(lái)分, 則可把設(shè)計(jì)方法分成全定制和半定制兩大類(lèi)。由于制造工藝水平的提高,特征尺寸的減小,各種寄生參數(shù)對(duì)電路的影響也越來(lái)越大,在版圖設(shè)計(jì)中有越來(lái)越多的問(wèn)題要考慮。
本文首先是分析比較了各種高速模數(shù)轉(zhuǎn)化器的特點(diǎn)之后采用Cadence公司的Virtuoso定制設(shè)計(jì)平臺(tái),使用全定制的的方法對(duì)一個(gè)ADC參考電壓電路進(jìn)行版圖設(shè)計(jì),ADC參考電壓電路使用了cmos工藝,量程為0.5V,在版圖時(shí)調(diào)用Cadence公司提供的90nm標(biāo)準(zhǔn)cmos工藝庫(kù),用Spectre工具對(duì)電路進(jìn)行了性能分析和仿真,并在Cadence公司提供的工藝文件下完成了版圖設(shè)計(jì),詳細(xì)的分析了版圖設(shè)計(jì)的過(guò)程,介紹了DRC規(guī)則和LVS,然后使用Assura工具進(jìn)行DRC和LVS驗(yàn)證,進(jìn)行仿真的驗(yàn)證,證明本論文的版圖設(shè)計(jì)完全符合要求。在最后還對(duì)一些DRC和LVS錯(cuò)誤進(jìn)行了分析。
關(guān)鍵詞:參考電壓電路,版圖設(shè)計(jì),cmos,工藝,全定制,后仿真,Cadence,Spectre,
Abstract
Layout design is an important part of the rate decision according to the degree of automation design, and layout design methods can be divided into the design manual and automatic design of two categories. According to the place and route location and layout of the restrictions to limit the sub-module, the design methods can be divided into full-custom and semi-custom two categories. Since raising the level of manufacturing technology, feature size decreases, the various parameters on the circuit parasitic effects also growing in the territory of the design of a growing number of issues to consider.
This paper is a comparative analysis of the characteristics of digital converter using Cadence Virtuoso company, use the custom design platform for a method of customized reference voltage circuit ADC layout design,. ADC reference voltage circuit to maintain the use of the cmos technology, Range for 0.5 V, called the Cadence companies to provide standard cmos 90 nm process for using the tools Spectre circuit performance analysis and simulation, and Cadence technology companies to provide the documents to complete the layout, a detailed analysis of the layout design process, the DRC rules are introduced and use of Assura Tools DRC and LVS verification,and simulation test to prove that the layout of the paper fully meet the requirements. In the end, some mistakes of LVS DRC and analyzed.
Key Words:reference voltage circuit layout design cmos technology full-custom post layout simulation.
目 錄
摘 要 I
Abstract II
1緒論 1
1.1本課題研究的意義 1
2版圖設(shè)計(jì)方案 2
2.1版圖設(shè)計(jì)工具簡(jiǎn)介 2
3模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器(ADC)簡(jiǎn)介 3
3.1工作原理 3
3.2模數(shù)轉(zhuǎn)換器的種類(lèi) 4
3.2.1全并行結(jié)構(gòu)模數(shù)轉(zhuǎn)換器 5
3.2.2兩步式模數(shù)轉(zhuǎn)換器 6
3.2.3流水線(xiàn)模數(shù)轉(zhuǎn)換器 8
3.2.4流水線(xiàn)模數(shù)轉(zhuǎn)換器的體系結(jié)構(gòu) 9
4電路分析 11
4.1參考電壓電路 11
4.2電路模擬仿真結(jié)果 11
5版圖設(shè)計(jì) 14
5.1 CMOS工藝概述 14
5.2單元版圖設(shè)計(jì) 15
5.2.1 90nm制造工藝綜述 15
5.2.2電容的版圖設(shè)計(jì) 16
5.2.3 MOS管的版圖設(shè)計(jì) 17
5.2.4電阻的版圖設(shè)計(jì) 19
5.3CMOS保護(hù)環(huán)設(shè)計(jì) 20
5.4天線(xiàn)效應(yīng)的分析 21
5.5襯底噪聲分析 22
5.6 MOS管的匹配分析 23
5.7版圖的總體設(shè)計(jì) 23
5.7.1估算芯片面積 23
5.7.2電源規(guī)劃 27
5.7.3 布局 28
5.7.4 布線(xiàn) 29
5.7.5 版圖優(yōu)化 31
5.8版圖 35
6物理驗(yàn)證 38
6.1設(shè)計(jì)規(guī)則檢查 38
6.1.1 DRC規(guī)則介紹 38
6.1.2 DRC操作 41
6.2 電路規(guī)程檢查 43
6.2.1 LVS介紹 43
6.2.2 LVS操作 44
7版圖錯(cuò)誤分析 46
7.1DRC錯(cuò)誤分析 46
7.1.1 OXIDE.X.1錯(cuò)誤 46
7.1.2 METAL1.SP.1.2錯(cuò)誤 47
7.1.3 CONT.W.1錯(cuò)誤 48
7.2 LVS錯(cuò)誤分析 49
8總結(jié)及討論 51
參考文獻(xiàn) 52
附 錄 53
致 謝 55
參考文獻(xiàn)
[1]張延慶,張開(kāi)華,朱兆宗編:《半導(dǎo)體集成電路》[M].上??茖W(xué)技術(shù)出版社.1986.5
[2]朱正涌. 《半導(dǎo)體集成電路》[M].清華大學(xué)出版社.2001.5
[3]王翠霞,范學(xué)峰,許維勝等著 《Cadence 版圖設(shè)計(jì)環(huán)境的建立及設(shè)計(jì)規(guī)則的驗(yàn)證》[M] 同濟(jì)大學(xué) 半導(dǎo)體與信息技 術(shù)研究所上海 200092
[4](加)格雷(Clein,D.) 著,鄧紅輝等譯 《CMOS 集成電路版圖—概念、方法與工具》[M]電子工業(yè)出版社 2006-3-1
[5](美)Boris Murmann,Bernhard E.Boser 《數(shù)字輔助的流水線(xiàn) AD 轉(zhuǎn)換器理論與實(shí)現(xiàn)》(英文影印版)[M] 西安交通 大學(xué)出版社 2006 .7
[6] Cadence AMS Methodology Kit.Version 5.1.1.Cadence.April, 2006
[7](美)畢查德.拉扎維 著,陳貴燦等譯 《模擬 CMOS 集成電路設(shè)計(jì)》[M] 西安交通大學(xué)出版社 2003.2
[8] Alan Hlastings 《模擬電路版圖的藝術(shù)》影印版[M] 清華大學(xué)出版社 2005.1
[9]陳春章 艾霞 王國(guó)雄等編著.《數(shù)字集成電路物理設(shè)計(jì)》[M],科學(xué)出版社 2008.8
[10]董在望 李冬梅 王志華 李永明等編著.《高等模擬集成電路》[M] 清華大學(xué)出版社 2003.4
[11]David A.Johns 著 曾朝陽(yáng) 趙陽(yáng) 方順 等譯《模擬集成電路設(shè)計(jì)》[M] 機(jī)械工業(yè)出版社 2004.7
摘 要
版圖設(shè)計(jì)是決定良率高低的一個(gè)重要環(huán)節(jié),按設(shè)計(jì)自動(dòng)化程度來(lái)分,可將版圖設(shè)計(jì)方法分成手工設(shè)計(jì)和自動(dòng)設(shè)計(jì)兩大類(lèi)。按照對(duì)布局布線(xiàn)位置的限制和布局模塊的限制來(lái)分, 則可把設(shè)計(jì)方法分成全定制和半定制兩大類(lèi)。由于制造工藝水平的提高,特征尺寸的減小,各種寄生參數(shù)對(duì)電路的影響也越來(lái)越大,在版圖設(shè)計(jì)中有越來(lái)越多的問(wèn)題要考慮。
本文首先是分析比較了各種高速模數(shù)轉(zhuǎn)化器的特點(diǎn)之后采用Cadence公司的Virtuoso定制設(shè)計(jì)平臺(tái),使用全定制的的方法對(duì)一個(gè)ADC參考電壓電路進(jìn)行版圖設(shè)計(jì),ADC參考電壓電路使用了cmos工藝,量程為0.5V,在版圖時(shí)調(diào)用Cadence公司提供的90nm標(biāo)準(zhǔn)cmos工藝庫(kù),用Spectre工具對(duì)電路進(jìn)行了性能分析和仿真,并在Cadence公司提供的工藝文件下完成了版圖設(shè)計(jì),詳細(xì)的分析了版圖設(shè)計(jì)的過(guò)程,介紹了DRC規(guī)則和LVS,然后使用Assura工具進(jìn)行DRC和LVS驗(yàn)證,進(jìn)行仿真的驗(yàn)證,證明本論文的版圖設(shè)計(jì)完全符合要求。在最后還對(duì)一些DRC和LVS錯(cuò)誤進(jìn)行了分析。
關(guān)鍵詞:參考電壓電路,版圖設(shè)計(jì),cmos,工藝,全定制,后仿真,Cadence,Spectre,
Abstract
Layout design is an important part of the rate decision according to the degree of automation design, and layout design methods can be divided into the design manual and automatic design of two categories. According to the place and route location and layout of the restrictions to limit the sub-module, the design methods can be divided into full-custom and semi-custom two categories. Since raising the level of manufacturing technology, feature size decreases, the various parameters on the circuit parasitic effects also growing in the territory of the design of a growing number of issues to consider.
This paper is a comparative analysis of the characteristics of digital converter using Cadence Virtuoso company, use the custom design platform for a method of customized reference voltage circuit ADC layout design,. ADC reference voltage circuit to maintain the use of the cmos technology, Range for 0.5 V, called the Cadence companies to provide standard cmos 90 nm process for using the tools Spectre circuit performance analysis and simulation, and Cadence technology companies to provide the documents to complete the layout, a detailed analysis of the layout design process, the DRC rules are introduced and use of Assura Tools DRC and LVS verification,and simulation test to prove that the layout of the paper fully meet the requirements. In the end, some mistakes of LVS DRC and analyzed.
Key Words:reference voltage circuit layout design cmos technology full-custom post layout simulation.
目 錄
摘 要 I
Abstract II
1緒論 1
1.1本課題研究的意義 1
2版圖設(shè)計(jì)方案 2
2.1版圖設(shè)計(jì)工具簡(jiǎn)介 2
3模擬數(shù)字轉(zhuǎn)換器(ADC)簡(jiǎn)介 3
3.1工作原理 3
3.2模數(shù)轉(zhuǎn)換器的種類(lèi) 4
3.2.1全并行結(jié)構(gòu)模數(shù)轉(zhuǎn)換器 5
3.2.2兩步式模數(shù)轉(zhuǎn)換器 6
3.2.3流水線(xiàn)模數(shù)轉(zhuǎn)換器 8
3.2.4流水線(xiàn)模數(shù)轉(zhuǎn)換器的體系結(jié)構(gòu) 9
4電路分析 11
4.1參考電壓電路 11
4.2電路模擬仿真結(jié)果 11
5版圖設(shè)計(jì) 14
5.1 CMOS工藝概述 14
5.2單元版圖設(shè)計(jì) 15
5.2.1 90nm制造工藝綜述 15
5.2.2電容的版圖設(shè)計(jì) 16
5.2.3 MOS管的版圖設(shè)計(jì) 17
5.2.4電阻的版圖設(shè)計(jì) 19
5.3CMOS保護(hù)環(huán)設(shè)計(jì) 20
5.4天線(xiàn)效應(yīng)的分析 21
5.5襯底噪聲分析 22
5.6 MOS管的匹配分析 23
5.7版圖的總體設(shè)計(jì) 23
5.7.1估算芯片面積 23
5.7.2電源規(guī)劃 27
5.7.3 布局 28
5.7.4 布線(xiàn) 29
5.7.5 版圖優(yōu)化 31
5.8版圖 35
6物理驗(yàn)證 38
6.1設(shè)計(jì)規(guī)則檢查 38
6.1.1 DRC規(guī)則介紹 38
6.1.2 DRC操作 41
6.2 電路規(guī)程檢查 43
6.2.1 LVS介紹 43
6.2.2 LVS操作 44
7版圖錯(cuò)誤分析 46
7.1DRC錯(cuò)誤分析 46
7.1.1 OXIDE.X.1錯(cuò)誤 46
7.1.2 METAL1.SP.1.2錯(cuò)誤 47
7.1.3 CONT.W.1錯(cuò)誤 48
7.2 LVS錯(cuò)誤分析 49
8總結(jié)及討論 51
參考文獻(xiàn) 52
附 錄 53
致 謝 55
參考文獻(xiàn)
[1]張延慶,張開(kāi)華,朱兆宗編:《半導(dǎo)體集成電路》[M].上??茖W(xué)技術(shù)出版社.1986.5
[2]朱正涌. 《半導(dǎo)體集成電路》[M].清華大學(xué)出版社.2001.5
[3]王翠霞,范學(xué)峰,許維勝等著 《Cadence 版圖設(shè)計(jì)環(huán)境的建立及設(shè)計(jì)規(guī)則的驗(yàn)證》[M] 同濟(jì)大學(xué) 半導(dǎo)體與信息技 術(shù)研究所上海 200092
[4](加)格雷(Clein,D.) 著,鄧紅輝等譯 《CMOS 集成電路版圖—概念、方法與工具》[M]電子工業(yè)出版社 2006-3-1
[5](美)Boris Murmann,Bernhard E.Boser 《數(shù)字輔助的流水線(xiàn) AD 轉(zhuǎn)換器理論與實(shí)現(xiàn)》(英文影印版)[M] 西安交通 大學(xué)出版社 2006 .7
[6] Cadence AMS Methodology Kit.Version 5.1.1.Cadence.April, 2006
[7](美)畢查德.拉扎維 著,陳貴燦等譯 《模擬 CMOS 集成電路設(shè)計(jì)》[M] 西安交通大學(xué)出版社 2003.2
[8] Alan Hlastings 《模擬電路版圖的藝術(shù)》影印版[M] 清華大學(xué)出版社 2005.1
[9]陳春章 艾霞 王國(guó)雄等編著.《數(shù)字集成電路物理設(shè)計(jì)》[M],科學(xué)出版社 2008.8
[10]董在望 李冬梅 王志華 李永明等編著.《高等模擬集成電路》[M] 清華大學(xué)出版社 2003.4
[11]David A.Johns 著 曾朝陽(yáng) 趙陽(yáng) 方順 等譯《模擬集成電路設(shè)計(jì)》[M] 機(jī)械工業(yè)出版社 2004.7
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