觸針式輪廓儀，原子力顯微鏡和非接觸式光學(xué)輪廓儀測(cè)量表面粗糙度的比較
Chin Y. Poon, Bharat Bhushan
美國俄亥俄州立大學(xué)微生物和污染研究實(shí)驗(yàn)室機(jī)械工程部門
1994年12月22日收到，1995年5月24日接受
摘要
用觸針（ SP法）、原子力顯微鏡（ AFM ）和非接觸式光學(xué)輪廓儀（ nop ）測(cè)量玻璃陶瓷基底的表面粗糙度，不同的測(cè)量方法得到的表面測(cè)量結(jié)果存在一定的不同，經(jīng)過調(diào)查當(dāng)用觸針（ SP法）、原子力顯微鏡（AFM）和非接觸式光學(xué)輪廓儀測(cè)量粗糙度時(shí)的影響參數(shù)有觸針的大小，掃描尺寸的大小和采樣間隔，結(jié)論是原子力顯微鏡最合適測(cè)量玻璃陶瓷基底表面的粗糙度。如果用觸針來測(cè)量尖端半徑大小可達(dá)到0.2μm，但是可能會(huì)由于出現(xiàn)高接觸應(yīng)力而局部損壞測(cè)試表面，因?yàn)椴Ａ沾苫缀瑏單⒚状笮〉拇植诙龋墙佑|式光學(xué)輪廓儀放大倍數(shù)是（40x客觀放大倍數(shù)）或更低，所以不推薦使用。
關(guān)鍵詞：比較表面形貌，觸針的大小，掃描尺寸大小，采樣間隔區(qū)間，玻璃陶瓷基底
1．導(dǎo)言