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氟硼吡咯鐵鈷配合物的合成.表征及應(yīng)用
摘要： 氟硼二吡咯甲川類熒光化合物（簡(jiǎn)稱氟硼吡咯)及其衍生物也成了近年來研究的重要課題之一。氟硼二吡咯甲川類熒光染料是一種性能優(yōu)越的染料，因其良好的光化學(xué)穩(wěn)定性、高摩爾消光系數(shù)、高熒光量子產(chǎn)率、分子結(jié)構(gòu)易于修飾、對(duì)溶劑極性和 pH 的耐受性好等眾多優(yōu)點(diǎn)而被廣泛應(yīng)..
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氟硅聚合物保護(hù)材料的制備及性能研究
摘要：采用半連續(xù)種子乳液聚合和預(yù)乳化法，制備了一系列不同甲基丙烯酸十二氟庚酯（DFMA）含量的含氟硅保護(hù)材料（FPA/SiO2）。采用紅外光譜（FT-IR）、透射電子顯微鏡（TEM）、熱重分析（TG）等性能測(cè)試裝置對(duì)FPA/SiO2保護(hù)材料進(jìn)行表征；采用X射線衍射（XRD）、掃描電子顯微鏡..
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新型石墨烯基熒光探針材料的設(shè)計(jì).合成及對(duì)重金屬離子的檢測(cè)
中文摘要
摘要：采用Hummers法制備了粒徑均一的氧化石墨烯（GO）。以氧化石墨烯、β-環(huán)糊精（β-CD）和異佛爾酮二異氰酸酯（IPDI）為原料，合成了一種新型β-環(huán)糊精修飾氧化石墨烯的熒光探針復(fù)合材料（GO-IPDI-CDs）。采用傅立葉紅外光譜（FT-IR）及掃描..
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復(fù)合光催化劑agagclcofe2o4的合成及其光催化降解甲基橙的研究
摘要： 本文通過XRD,DRS,TEM等方法對(duì)制備的Ag/AgCl/CoFe2O4進(jìn)行了表征，研究其光學(xué)等物理化學(xué)性質(zhì)。為了研究所合成的Ag/AgCl/CoFe2O4的光催化活性，我們把甲基橙作為降解的對(duì)象。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：隨著Ag/AgCl含量的不斷升高，光催化活性越來越好。通過不..
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基于固相萃取鈰離子印跡聚合物的制備及應(yīng)用
摘要：以m-SBA-15為基質(zhì)材料，通過濕浸漬法制備了磁性SBA-15 (m-SBA-15)，利用表面引發(fā)可逆加成-斷裂鏈轉(zhuǎn)移(RAFT)聚合制備了新型的磁性鈰離子表面印跡聚合物(Ce(III)-IIP)并研究了其對(duì)鈰的選擇性吸附性能。運(yùn)用紅外光譜、掃描電子顯微鏡、熱重分析儀、透射電子顯微鏡、XR..
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含銅納米多孔硅的制備
摘要：現(xiàn)代研究表明，硅基介孔材料應(yīng)用前景廣大，廣泛涉及到光、電、磁、生物醫(yī)藥、傳感和納米工程等各個(gè)方向，其研究成為一個(gè)新興的蓬勃發(fā)展的跨學(xué)科研究領(lǐng)域。開發(fā)合成硅基介孔材料的新方法，解決其合成中存在的諸多問題，制備具有新穎特點(diǎn)的硅基介孔復(fù)合材料，并探討其相關(guān)功能性質(zhì)是硅基..
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雙配位中心席夫堿過渡金屬配合物的合成與晶體結(jié)構(gòu)表征
摘要: 本論文以席夫堿(二(3-甲氧基水楊醛)縮乙二胺記為H2L)為六齒配體，以過渡金屬離子為自旋載體設(shè)計(jì)并合成了一些新的席夫堿配合物[CuIIL](1)、[MIICuIIL](ClO4)2 (MII = CuII (2), MII = MnII (3))。用紅外光譜(IR)對(duì)配合物進(jìn)行了表征，用X-射線衍射儀測(cè)定了..
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三明治型咔咯酞菁稀土配合物的合成和表征
摘要: 咔咯和酞菁均為類卟啉大環(huán)化合物，在分子結(jié)構(gòu)上，它們和卟啉化合物有一定的相似性，具有四吡咯環(huán)結(jié)構(gòu)，但在性質(zhì)上存在一定的差異。咔咯傾向于和具有較強(qiáng)氧化性的金屬離子結(jié)合；酞菁則幾乎能和所有的金屬元素合成配合物。當(dāng)配位中心是半徑較大的金屬離子如稀土元素、..
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α-重氮羰基化合物的合成與表征
摘要：重氮化合物在合成領(lǐng)域運(yùn)用廣泛，能參與合成各類化合物，反應(yīng)條件溫和，。熱或光化學(xué)誘導(dǎo)使重氮化合物失去氮分子形成卡賓化合物，隨后進(jìn)行多樣的變換，包括X-H（X = C，O，S，N，等）的插入，環(huán)丙烷化，形成內(nèi)鎓鹽和1,2 -遷移。此外，近來有報(bào)道，結(jié)合過渡金屬催化的卡賓變換?.
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